国家知识产权局：将修改完善集成电路布图设计保护条例适应大规模集成电路发展需要（20230424） - 文库交换网

docx

国家知识产权局：将修改完善集成电路布图设计保护条例适应大规模集成电路发展需要（20230424）

发布 2023-07-18 00:00:00 阅读 112 大小 61.32K

VIP会员可免费下载与转存

开通会员马上下载

剩余内容已隐藏，点击付费后查看

熬友注意： 升级 VIP 免费浏览，您当前未登录

熬友注意： 您需要支付 ￥9.90 元后才能查看这篇内容

微信支付

点赞(0) 打赏

本文分类：写材料技巧
本文标签：无
浏览次数：112 次浏览
发布日期：2023-07-18 00:00:00
本文链接：https://www.wangbo123.cn/xiecailiaojiqiao/175017.html

联系客服

微信扫一扫咨询

微信公众账号

微信扫一扫加关注

发表
评论返回
顶部